Existem três processos principais para a fabricação de TFT-LCD:
1) Processamento de Matriz
2) Processo de organização
3) Processo modular
Finalmente, vemos o produto.
1. Processamento de matriz
1) Um pedaço de vidro com superfície lisa e sem impurezas é a principal matéria-prima para a fabricação de substratos de vidro TFT. Antes de fazer, o vidro deve ser lavado e limpo com solução de limpeza especial, depois desidratado e seco.
2) Para depositar o filme metálico em substratos de vidro, os materiais metálicos devem ser colocados primeiro na câmara de vácuo. Depois que o plasma é produzido por gases especiais no metal, os átomos do metal colidem com o vidro e, em seguida, uma camada de filme metálico é formada.
3) Após o revestimento do filme de metal, também precisamos revestir uma camada de camada não condutora e camada semicondutora. Na câmara de vácuo, primeiro aquecemos a placa de vidro, depois borrifamos o gás especial pelo pulverizador elétrico de alta voltagem para fazer os elétrons e gases produzirem plasma. Após a reação química, a camada não condutora e a camada semicondutora são formadas no vidro.
4) Depois que o filme for formado, precisamos fazer padrões de transistor no vidro. Em primeiro lugar, precisamos pulverizar um líquido fotoresistente altamente sensível na sala amarela, em seguida, cobri-lo com uma máscara de luz para irradiar a luz azul e roxa para exposição e, finalmente, enviá-lo para a área de revelação para pulverizar o revelador, de modo a para remover a resistência à luz após a iluminação, mas também para tornar a camada fotoresistiva estereotipada.
5) Depois que o fotorresiste é definido, podemos usar o ataque químico para decapagem úmida, expondo o filme inútil, ou ataque químico a seco com a reação química do plasma. Após a corrosão, podemos remover o fotorresiste restante com deslizamento e, finalmente, produzir o padrão de circuito necessário para o transistor.
6) Para formar os transistores de película fina disponíveis, é necessário repetir os processos de limpeza, revestimento, fotoresistência, exposição, revelação, ataque químico e remoção da fotoresistência. De modo geral, para fabricar TFT-LCD, é necessário repetir de 5 a 7 vezes.
