A tecnologia TFT foi desenvolvida na década de 1990. Adota novos materiais e novos processos para a tecnologia de fabricação de circuitos integrados em larga escala. É usado para exibições de painéis planos de cristal líquido (LC), eletroluminescência de filme fino inorgânico e orgânico (EL e OEL). base. TFT é um wafer não único, como um substrato de vidro ou plástico (é claro, também pode estar em um wafer) através de processos de sputtering e deposição química para formar vários filmes necessários para a fabricação de circuitos, e circuitos integrados de semicondutores em larga escala (LSIC) são fabricados através do processamento dos filmes. . O uso de substratos de cristal não simples pode reduzir muito os custos, e é uma extensão de circuitos tradicionais integrados em larga escala para direções de grande área, multifunções e de baixo custo. É mais tecnicamente difícil fabricar TFTs que controlam o desempenho de comutação de pixels (LC ou OLED) em substratos de vidro ou plástico de grande área do que fabricar ICs em larga escala em wafers de silício. Os requisitos para o ambiente de produção (grau de purificação é de 100), os requisitos para a pureza das matérias-primas (a pureza do gás especial eletrônico é de 99,999985%), e os requisitos para equipamentos de produção e tecnologia de produção excedem a integração em larga escala dos semicondutores. É o topo da produção moderna em larga escala. Tecnologia. Suas principais características são:
(1) Grande área: A primeira geração de substrato de vidro de grande área (300mm×400mm) linha de produção TFT-LCD foi colocada em produção no início da década de 1990. No primeiro semestre de 2000, a área do substrato de vidro havia sido expandida para 680mm×880mm), e o tamanho do substrato de vidro era de 950mm×1200mm. O substrato de vidro também será colocado em operação. Em princípio, não há limitação de área.
(2) Alta integração: O chip TFT de 1,3 polegadas usado para projeção de cristal líquido tem uma resolução de XGA contendo milhões de pixels. A espessura do filme da matriz TFT de 16,1 polegadas de silício amorfo com resolução de SXGA (1280×1024) é de apenas 50nm, e as tecnologias TAB ON GLASS e SYSTEM ON GLASS, a integração de seu IC, os requisitos para equipamentos e tecnologia de fornecimento, e a dificuldade técnica todos excedem o LSI tradicional.
(3) Funções poderosas: O TFT foi usado pela primeira vez como um circuito de localização de matriz para melhorar as características da válvula de luz dos cristais líquidos. Para displays de alta resolução, através da regulação de tensão na faixa de 0-6V (tipicamente 0,2 a 4V), o controle preciso do objeto é alcançado, possibilitando que o LCD alcance displays de alta qualidade e alta resolução. TFT-LCD é o primeiro display de painel plano na história humana que excede o CRT na qualidade do display. E as pessoas começam a integrar o IC do motorista no substrato de vidro, e a função de todo o TFT será mais poderosa, o que é incomparável pelos circuitos tradicionais integrados de semicondutores em larga escala.
(4) Baixo custo: O substrato de vidro e o substrato plástico resolvem fundamentalmente o problema de custo de circuitos integrados de semicondutores em larga escala e abrem um amplo espaço de aplicação para a aplicação de circuitos integrados de semicondutores em larga escala.
